Halbleiter und Elektronik

EUV-Lithographiemarkt Report Cover

EUV-Lithographiemarkt

EUV-Lithographiemarkt Report Cover

EUV-Lithographie-Marktgröße, Anteil, Wachstum und Branchenanalyse, nach Ausrüstung (Lichtquelle, Optik, andere), nach Endbenutzer (Hersteller integrierter Geräte, Gießereien) und regionale Analyse, 2024-2031

Autor : Sunanda G.


Seiten : 120

Basisjahr : 2023

Veröffentlichung : September 2024

Berichts-ID: KR1023


Marktgröße für EUV-Lithographie

Die Größe des globalen EUV-Lithographiemarkts wurde im Jahr 2023 auf 9,45 Milliarden US-Dollar geschätzt und wird voraussichtlich von 10,47 Milliarden US-Dollar im Jahr 2024 auf 23,37 Milliarden US-Dollar im Jahr 2031 wachsen, was einer durchschnittlichen jährlichen Wachstumsrate von 12,15 % im Prognosezeitraum entspricht. Die schnelle Einführung von Technologien wie künstlicher Intelligenz (KI), dem Internet der Dinge (IoT) und der 5G-Technologie erhöht den Bedarf an hochmodernen Halbleitergeräten.

In diesem Zusammenhang ist die EUV-Lithographie von entscheidender Bedeutung, da sie die Herstellung kleinerer, leistungsstärkerer und energieeffizienterer Chips ermöglicht. Diese fortschrittlichen Chips sind von entscheidender Bedeutung für die Entwicklung von Technologien der nächsten Generation, einschließlich KI-gesteuerter Anwendungen und Hochgeschwindigkeits-5G-Netzwerken.

Im Rahmen der Arbeit umfasst der Bericht Produkte und Dienstleistungen, die von Unternehmen wie ASML, Nikon Corporation, Ushio Inc., Photronics Inc., TRUMPF, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Toppan Photomasks Inc., Carl Zeiss AG, KLA Corporation, angeboten werden. SÜSS MicroTec SE und andere.

Darüber hinaus treibt der zunehmende Bedarf an Hochleistungsrechnen, angetrieben durch Rechenzentren, Cloud Computing und KI-Anwendungen, das Wachstum des EUV-Lithographiemarktes voran. Die Technologie ermöglicht die Produktion von Chips mit hoher Dichte, die erforderlich sind, um die strengen Leistungs- und Energieeffizienzanforderungen dieser Anwendungen zu erfüllen. Da sowohl Unternehmen als auch Verbraucher nach schnelleren und effizienteren Computerlösungen suchen, wird die Nachfrage nach EUV-Lithographie voraussichtlich steigen.

EUV-Lithographie (Extreme Ultraviolet) ist ein fortschrittliches Halbleiterherstellungsverfahren, bei dem extrem ultraviolettes Licht mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometern verwendet wird, um komplizierte und hochdichte Schaltkreismuster auf Siliziumwafer zu ätzen. Diese Technologie ist entscheidend für die Herstellung kleinerer, schnellerer und energieeffizienterer Mikrochips, die für moderne Elektronikgeräte wie Smartphones, Hochleistungsrechner und 5G-Netzwerke unerlässlich sind.

Die EUV-Lithographie ermöglicht im Vergleich zu herkömmlichen Lithographiemethoden eine höhere Präzision und Miniaturisierung und ermöglicht die Entwicklung von Halbleitern der nächsten Generation, die den technologischen Fortschritt in verschiedenen Branchen vorantreiben.

Analystenbewertung

Das robuste Netzwerk der Zusammenarbeit zwischen führenden Technologieunternehmen, Lithografieanbietern, Forschungseinrichtungen und Regierungsbehörden ist für die Weiterentwicklung der EUV-Lithografietechnologie von entscheidender Bedeutung. Diese strategischen Partnerschaften tragen wesentlich zum Marktwachstum bei. Die Zusammenarbeit zwischen den Unternehmen ist von entscheidender Bedeutung, um die Grenzen der EUV-Lithographie voranzutreiben, einer Technologie, die für die Herstellung kleinerer, leistungsstärkerer und energieeffizienterer Halbleiterbauelemente von entscheidender Bedeutung ist.

Diese Partnerschaften ermöglichen die Entwicklung modernster Lithographietechniken, die für die nächste Generation von wesentlicher Bedeutung sindHalbleiterHerstellung. Die gemeinsamen Anstrengungen verbessern die Fähigkeiten der EUV-Technologie und erhöhen ihre Integration in verschiedene Anwendungen, wodurch die Expansion des Marktes unterstützt wird.

Darüber hinaus integrieren Halbleitergießereien die EUV-Lithographie aufgrund ihrer entscheidenden Rolle bei der Herstellung fortschrittlicher Halbleiterbauelemente rasch in ihre Abläufe. Die EUV-Technologie ermöglicht die Herstellung kleinerer und komplexerer Halbleiterelemente, die für die Erfüllung der steigenden Nachfrage nach höherer Leistung und geringerem Stromverbrauch in der Elektronik unerlässlich sind. Wenn Gießereien die EUV-Lithographie einführen, verbessern sie ihre Fähigkeit, hochmoderne Chips mit verbesserter Präzision und Effizienz herzustellen.

  • Beispielsweise installierte Intel Foundry im April 2024 in seiner Forschungs- und Entwicklungseinrichtung in Hillsboro, Oregon, den branchenweit ersten kommerziellen High Numerical Aperture (High NA) Extreme Ultraviolet (EUV)-Lithografiescanner. Das TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV-Tool des Lithografie-Marktführers ASML soll Intel eine beispiellose Skalierbarkeit und Präzision bei der Chipherstellung ermöglichen. Diese fortschrittliche Technologie ermöglicht es Intel, Chips mit modernsten Fähigkeiten und Funktionen herzustellen, die für die Förderung von Innovationen in neuen Technologien, einschließlich KI, von entscheidender Bedeutung sind.

Wachstumsfaktoren für den EUV-Lithographie-Markt

Die weltweite Nachfrage nach Mikrochips steigt aufgrund der weit verbreiteten Einführung fortschrittlicher Technologien wie künstlicher Intelligenz, 5G und dem Internet der Dinge (IoT). Da die Industrie zunehmend auf leistungsfähigere und effizientere elektronische Geräte setzt, besteht ein entsprechender Bedarf an kleineren, komplexeren Mikrochips.

Die Miniaturisierung von Halbleitern ist zu einem entscheidenden Schwerpunkt geworden und ermöglicht die Herstellung kompakter und hocheffizienter Geräte mit verbesserter Leistung. Die EUV-Lithographie spielt bei diesem Miniaturisierungsprozess eine unverzichtbare Rolle und ermöglicht es Herstellern, ultrafeine Schaltkreismuster mit beispielloser Präzision zu erstellen.

Diese Fähigkeit ist für die Herstellung der nächsten Generation von Mikrochips, die den strengen Anforderungen moderner Anwendungen gerecht werden, von entscheidender Bedeutung. Die zunehmende Betonung der Miniaturisierung fördert die Expansion des EUV-Lithographiemarkts, da sie die Entwicklung modernster Halbleiter unterstützt, die die Grundlage für technologische Innovationen bilden.

Darüber hinaus legen Regierungen weltweit zunehmend Wert auf die Halbleiterindustrie und erkennen deren Bedeutung für die nationale Sicherheit und die wirtschaftliche Wettbewerbsfähigkeit an. Um die inländische Chipherstellung voranzutreiben, bieten sie erhebliche Unterstützung durch Finanzierung, Steueranreize und strategische Initiativen.

Besonders stark ist diese staatliche Unterstützung in Ländern wie den USA, Europa und China, wo sich die Bemühungen auf die Stärkung der Halbleiterlieferkette und den Ausbau der lokalen Produktionskapazitäten konzentrieren. Es gibt einen großen Wandel hin zur Einführung modernster Technologien wie der EUV-Lithographie, die für die Herstellung von Halbleitern der nächsten Generation unerlässlich ist.

  • Beispielsweise führte die chinesische Regierung im Mai 2024 ihren dritten staatlich geförderten geplanten Investmentfonds ein, um ihre Halbleiterindustrie auszubauen,. Dieser Fonds mit einem Kapital von 47,5 Milliarden US-Dollar wurde in einer Einreichung bei einem staatlich betriebenen Unternehmensregister detailliert beschrieben.

Markttrends für EUV-Lithographie

Die kontinuierliche Weiterentwicklung der EUV-Lithographietechnologie ist ein bedeutender Trend, der das Marktwachstum vorantreibt, insbesondere durch die verbesserten Fähigkeiten in der Halbleiterfertigung. Wichtige Innovationen in der EUV-Quellentechnologie haben zu einer höheren Quellenleistung und Produktivität geführt und dadurch höhere Waferausbeuten ermöglicht.

Diese Verbesserungen sind entscheidend, um der steigenden Nachfrage nach fortschrittlichen Chips gerecht zu werden. Fortschritte bei der Herstellung fehlerfreier und haltbarerer Masken führen zu einer weit verbreiteten Einführung dieser Technologie. Darüber hinaus verschiebt die Entwicklung von EUV-Lithographiescannern der nächsten Generation, die eine höhere Auflösung und eine verbesserte Overlay-Genauigkeit bieten, die Grenzen der Miniaturisierung und steigert die Leistung in der Chipproduktion.

Diese technologischen Fortschritte verbessern die Effizienz und Kosteneffizienz und setzen gleichzeitig neue Maßstäbe für Präzision und Leistungsfähigkeit in der Halbleiterfertigung, wodurch die Expansion des EUV-Lithographiemarktes vorangetrieben wird.

Darüber hinaus ist der kontinuierliche Fortschritt in der Unterhaltungselektronikbranche ein wichtiger Trend, der das Marktwachstum antreibt. Da Verbraucher zunehmend Geräte mit überlegener Leistung, längerer Batterielebensdauer und innovativen Funktionen verlangen, ist der Bedarf an fortschrittlichen Halbleiterchips deutlich gestiegen.

Die EUV-Lithographie spielt bei diesem Wandel eine entscheidende Rolle und ermöglicht die Produktion ultrakompakter Hochleistungschips, die für Smartphones, Laptops, Spielekonsolen usw. der nächsten Generation von entscheidender Bedeutung sindWearables. Diese Technologie ermöglicht es Herstellern, die Möglichkeiten der Unterhaltungselektronik neu zu definieren und hochmoderne Produkte zu liefern, die den steigenden Erwartungen technikaffiner Verbraucher gerecht werden.

Da der Wettbewerb um das Angebot der fortschrittlichsten Geräte zunimmt, wird die Rolle der EUV-Lithographie in der Unterhaltungselektronik immer wichtiger.

  • Laut Gitnux Org. Dem Bericht zufolge wurde der weltweite Markt für Unterhaltungselektronik im Jahr 2022 auf 729,11 Milliarden US-Dollar geschätzt und soll von 2023 bis 2030 mit einer jährlichen Wachstumsrate von 6,9 % wachsen.

Segmentierungsanalyse

Der globale Markt ist nach Ausrüstung, Endbenutzer und Geografie segmentiert.

Nach Ausrüstung

Basierend auf der Ausrüstung wird der Markt in Lichtquelle, Optik und andere unterteilt. Das Lichtquellensegment führte den EUV-Lithografiemarkt im Jahr 2023 an und erreichte einen Wert von 4,60 Milliarden US-Dollar. Diese Bedeutung wird auf seine entscheidende Rolle bei der Ermöglichung des gesamten Lithographieprozesses zurückgeführt. Die Lichtquelle erzeugt das extrem ultraviolette (EUV) Licht, das zum Ätzen präziser Muster auf Siliziumwafern erforderlich ist.

Da Halbleiterhersteller die Miniaturisierung weiter vorantreiben, ist die Nachfrage nach leistungsstärkeren und effizienteren Lichtquellen deutlich gestiegen. Diese Dominanz wird durch die erheblichen Forschungs- und Entwicklungsinvestitionen und die hohen Produktionskosten, die mit der Entwicklung und Wartung dieser fortschrittlichen Lichtquellen verbunden sind, noch verstärkt.

Vom Endbenutzer

Basierend auf dem Endbenutzer wird der Markt in integrierte Gerätehersteller und Gießereien unterteilt. Aufgrund seiner bedeutenden Rolle bei der Massenproduktion von Halbleiterchips sicherte sich das Foundries-Segment im Jahr 2023 mit 58,72 % den größten Umsatzanteil. Gießereien sind die Hauptanwender der EUV-Lithographietechnologie.

Die Nachfrage nach kleineren, effizienteren Chips für fortschrittliche Anwendungen wie KI, 5G und Hochleistungsrechnen hat Gießereien dazu veranlasst, stark in die EUV-Lithographie zu investieren. Diese Technologie ermöglicht es ihnen, die komplizierten und hochdichten Muster zu erzeugen, die für diese Halbleiter der nächsten Generation erforderlich sind.

Darüber hinaus müssen Gießereien stets eine höhere Leistung erbringen und Innovationen in großem Maßstab fördern, was die EUV-Lithographie für die Erfüllung der wachsenden Marktanforderungen unverzichtbar macht.

Regionale Analyse des EUV-Lithographiemarktes

Basierend auf der Region wird der globale Markt in Nordamerika, Europa, den asiatisch-pazifischen Raum, MEA und Lateinamerika unterteilt.

EUV Lithography Market Size & Share, By Region, 2024-2031

Der EUV-Lithografiemarkt im asiatisch-pazifischen Raum hatte im Jahr 2023 einen erheblichen Anteil von rund 36,28 % und wurde auf 3,43 Milliarden US-Dollar geschätzt. Im asiatisch-pazifischen Raum, insbesondere in Ländern wie Taiwan, Südkorea und China, sind einige der weltweit größten und fortschrittlichsten Halbleiterhersteller ansässig.

Diese Unternehmen setzen zunehmend auf EUV-Lithographie, um ihren Wettbewerbsvorteil zu wahren und der steigenden weltweiten Nachfrage nach hochmodernen Chips gerecht zu werden. Die Dominanz der Region in der Halbleiterproduktion steigert den Bedarf an fortschrittlicher Lithographieausrüstung und unterstützt so das regionale Marktwachstum.

  • Nach Angaben der Asiatischen Entwicklungsbank repräsentieren einkommensstarke und sich entwickelnde Volkswirtschaften in Ostasien und Südostasien zusammen über 80 % der weltweiten Halbleiterproduktion. In Japan sind einige der größten Unternehmen ansässig, die Geräte und Materialien liefern, die für die Halbleiterindustrie unerlässlich sind, während die Volksrepublik China bei der Produktion von Photovoltaikzellen, einer weiteren wichtigen Kategorie von Halbleitern, weltweit führend ist.

Der asiatisch-pazifische Raum ist ein wichtiges Zentrum für die Herstellung von Unterhaltungselektronik. Unternehmen in dieser Region sind für die Produktion eines erheblichen Anteils der weltweiten Smartphones, Laptops und anderen elektronischen Geräte verantwortlich. Die wachsende Nachfrage nach diesen Produkten führt in Verbindung mit der Verlagerung hin zu fortschrittlicheren und effizienteren Halbleitern zu einer weit verbreiteten Einführung der EUV-Lithographie zur Herstellung der nächsten Generation von Chips.

  • Ein von der globalen Wirtschaftsprüfungsgesellschaft Ernst & Young und der chinesischen Handelskammer für den Import und Export von Maschinen und elektronischen Produkten im Jahr 2024 gemeinsam veröffentlichter Bericht unterstreicht Chinas Entwicklung zu einem globalen Zentrum für Unterhaltungselektronik und Haushaltsgeräte. Im Jahr 2023 dominierte China den asiatisch-pazifischen Markt und eroberte etwa 48 % des Umsatzanteils. Der Bericht unterstreicht, dass China seine Position als führendes Land sowohl in der Produktion als auch im Verkauf gefestigt hat und eine bedeutende Exportposition beibehält, die im Jahr 2022 42 % der weltweiten Exportanteile ausmacht.

Nordamerika wird im Prognosezeitraum voraussichtlich ein deutliches Wachstum mit einer robusten jährlichen Wachstumsrate von 12,29 % verzeichnen. Die US-Regierung konzentriert sich zunehmend auf die Förderung der inländischen Halbleiterproduktion, um die nationale Sicherheit zu erhöhen und die Abhängigkeit von ausländischen Lieferanten zu verringern.

Initiativen wie der CHIPS Act, der erhebliche Mittel und Anreize für die Halbleiterfertigung und -forschung bereitstellt, fördern die Einführung fortschrittlicher Technologien wie der EUV-Lithographie in Nordamerika.

  • Laut einem Bericht des East Asia Forum vom August 2024 hat sich die Halbleiterindustrie zu einem entscheidenden Bestandteil der US-Wirtschaft und der nationalen Sicherheit entwickelt. Dies wird durch den raschen Ausbau der Halbleiterfertigungsanlagen im ganzen Land belegt. Bedeutende Investitionen, wie die neue Fabrik Fab 42 von Intel und die Fabrik von TSMC in Arizona, stärken die inländischen Produktionskapazitäten. Obwohl die Vereinigten Staaten nur über 12 Prozent der weltweiten Produktionskapazität verfügen, sind sie im Jahr 2024 für über 46 Prozent des gesamten Halbleiterumsatzes verantwortlich, was ihren bedeutenden Einfluss auf den Weltmarkt unterstreicht. Die Semiconductor Industry Association hat berichtet, dass der CHIPS Act über 450 Milliarden US-Dollar an privaten Investitionen in den US-amerikanischen Halbleitersektor angeregt hat, was zu 83 neuen Halbleiter-Ökosystemprojekten in 25 Bundesstaaten geführt hat.

Darüber hinaus profitiert die Halbleiterindustrie der Region von einem starken Netzwerk an Kooperationen zwischen führenden Technologieunternehmen, Forschungseinrichtungen und Regierungsbehörden. Diese Partnerschaften treiben die EUV-Lithographie voran und erleichtern ihre Einführung in verschiedenen Anwendungen, wodurch die Expansion des nordamerikanischen Marktes vorangetrieben wird.

Wettbewerbslandschaft

Der globale EUV-Lithographie-Marktbericht wird wertvolle Erkenntnisse liefern, wobei der Schwerpunkt auf der Fragmentierung der Branche liegt. Prominente Akteure konzentrieren sich auf mehrere wichtige Geschäftsstrategien wie Partnerschaften, Fusionen und Übernahmen, Produktinnovationen und Joint Ventures, um ihr Produktportfolio zu erweitern und ihre Marktanteile in verschiedenen Regionen zu erhöhen.

Strategische Initiativen, darunter Investitionen in F&E-Aktivitäten, die Errichtung neuer Produktionsanlagen und die Optimierung der Lieferkette, könnten neue Möglichkeiten für das Marktwachstum schaffen.

Liste der wichtigsten Unternehmen im EUV-Lithographiemarkt

Wichtige Branchenentwicklungen

  • Juni 2024 (Partnerschaft): ASML gab in Zusammenarbeit mit Imec, einem Innovations- und Forschungszentrum für digitale Technologien, die Einweihung des High NA EUV Lithography Lab in den Niederlanden bekannt. Diese fortschrittliche Einrichtung, die von den beiden Unternehmen gemeinsam betrieben wird, soll hochmodernen Herstellern von Speicherchips Zugang zum ersten Prototyp eines High NA EUV-Scanners sowie zu den zugehörigen Mess- und Verarbeitungswerkzeugen bieten.
  • Februar 2024 (Joint Venture): Toppan Photomask, ein weltweit führender Anbieter von Halbleiter-Fotomasken, gab eine gemeinsame Forschungs- und Entwicklungsvereinbarung mit IBM bekannt. Diese Zusammenarbeit konzentriert sich auf die Weiterentwicklung des 2-Nanometer-(nm)-Logik-Halbleiterknotens durch den Einsatz von Lithographie im extremen Ultraviolett (EUV). Darüber hinaus umfasst die Partnerschaft Bemühungen zur Entwicklung von EUV-Fotomasken mit hoher NA für Halbleiter der nächsten Generation.

Der globale Markt für EUV-Lithographie ist wie folgt unterteilt:

Nach Ausrüstung

  • Lichtquelle
  • Optik
  • Andere

Vom Endbenutzer

  • Hersteller integrierter Geräte
  • Gießereien

Nach Region

  • Nordamerika
    • UNS.
    • Kanada
    • Mexiko
  • Europa
    • Frankreich
    • VEREINIGTES KÖNIGREICH.
    • Spanien
    • Deutschland
    • Italien
    • Russland
    • Restliches Europa
  • Asien-Pazifik
    • China
    • Japan
    • Indien
    • Südkorea
    • Rest der Asien-Pazifik-Region
  • Naher Osten und Afrika
    • GCC
    • Nordafrika
    • Südafrika
    • Rest des Nahen Ostens und Afrikas
  • Lateinamerika
    • Brasilien
    • Argentinien
    • Rest Lateinamerikas

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Häufig gestellte Fragen (FAQs)

Der Weltmarkt soll bis 2031 ein Volumen von 23,37 Milliarden US-Dollar erreichen und von 2024 bis 2031 mit einer jährlichen Wachstumsrate von 12,15 % wachsen.

Der globale Markt wurde im Jahr 2023 auf 9,45 Milliarden US-Dollar geschätzt.

Die zunehmende Einführung der EUV-Lithographietechnologie durch Halbleiterhersteller, strategische Kooperationen zwischen Branchenführern und die Entwicklung von High-NA-EUV-Systemen treiben das Wachstum auf dem EUV-Lithographiemarkt voran.

Top-Hersteller auf dem Markt sind ASML, Nikon Corporation, Ushio Inc., Photronics Inc., TRUMPF, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Toppan Photomasks Inc., Carl Zeiss AG, KLA Corporation, SÜSS MicroTec SE und andere.

Der asiatisch-pazifische Raum ist die am schnellsten wachsende Region mit einer jährlichen Wachstumsrate von 12,59 % im prognostizierten Zeitraum (2024–2031), wobei der Marktwert voraussichtlich 8,84 Milliarden US-Dollar erreichen wird.

Nach Endverbrauchern werden Gießereien mit einem Umsatzwert von 13,68 Milliarden US-Dollar im Jahr 2031 den maximalen Marktanteil halten.

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