Tamanho do mercado de litografia EUV, participação, análise de crescimento e indústria, por equipamento (fonte de luz, óptica, outros), por usuário final (fabricantes de dispositivos integrados, fundições) e análise regional, 2024-2031

Tamanho do mercado de litografia EUV

O tamanho global do mercado de litografia EUV foi avaliado em US$ 9,45 bilhões em 2023 e deve crescer de US$ 10,47 bilhões em 2024 para US$ 23,37 bilhões até 2031, exibindo um CAGR de 12,15% durante o período de previsão. A rápida adoção de tecnologias como a inteligência artificial (IA), a Internet das Coisas (IoT) e a tecnologia 5G está a alimentar a necessidade de dispositivos semicondutores de última geração.

A litografia EUV é essencial neste contexto, pois permite a produção de chips menores, mais potentes e com maior eficiência energética. Estes chips avançados são cruciais para alimentar tecnologias de próxima geração, incluindo aplicações baseadas em IA e redes 5G de alta velocidade.

No escopo do trabalho, o relatório inclui produtos e serviços oferecidos por empresas como ASML, Nikon Corporation, Ushio Inc., Photronics Inc., TRUMPF, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Toppan Photomasks Inc., Carl Zeiss AG, KLA Corporation, SUSS MicroTec SE e outros.

Além disso, a crescente necessidade de computação de alto desempenho, impulsionada por data centers, computação em nuvem e aplicações de IA, está impulsionando o crescimento do mercado de litografia EUV. A tecnologia permite a produção de chips de alta densidade necessários para atender às rigorosas demandas de desempenho e eficiência energética dessas aplicações. À medida que tanto as empresas como os consumidores procuram soluções informáticas mais rápidas e eficientes, a procura por litografia EUV está prestes a aumentar.

A litografia EUV (ultravioleta extremo) é um processo avançado de fabricação de semicondutores que usa luz ultravioleta extrema com comprimento de onda de 13,5 nanômetros para gravar padrões de circuito intrincados e altamente densos em wafers de silício. Essa tecnologia é crucial para a produção de microchips menores, mais rápidos e com maior eficiência energética, essenciais para eletrônicos modernos, como smartphones, computação de alto desempenho e redes 5G.

A litografia EUV permite maior precisão e miniaturização em comparação com os métodos tradicionais de litografia, permitindo o desenvolvimento de semicondutores de próxima geração que impulsionam avanços tecnológicos em vários setores.

Revisão do analista

A robusta rede de colaborações entre empresas líderes de tecnologia, fornecedores de litografia, instituições de pesquisa e agências governamentais é essencial para o avanço da tecnologia de litografia EUV. Essas parcerias estratégicas estão contribuindo significativamente para o crescimento do mercado. As colaborações entre as empresas são cruciais para avançar os limites da litografia EUV, uma tecnologia crítica para a produção de dispositivos semicondutores menores, mais potentes e com maior eficiência energética.

Estas parcerias estão permitindo o desenvolvimento de técnicas de litografia de ponta que são essenciais para a próxima geração desemicondutorfabricação. Os esforços colaborativos estão a melhorar as capacidades da tecnologia EUV e a aumentar a sua integração em diversas aplicações, apoiando assim a expansão do mercado.

Além disso, as fundições de semicondutores estão incorporando rapidamente a litografia EUV nas suas operações devido ao seu papel crítico na produção de dispositivos semicondutores avançados. A tecnologia EUV permite a fabricação de recursos semicondutores menores e mais complexos, que são essenciais para atender à crescente demanda por maior desempenho e menor consumo de energia em eletrônicos. À medida que as fundições adotam a litografia EUV, elas aumentam sua capacidade de fabricar chips de última geração com maior precisão e eficiência.

• Por exemplo, em abril de 2024, a Intel Foundry instalou o primeiro scanner de litografia comercial de alta abertura numérica (High NA) Extreme Ultraviolet (EUV) do setor em suas instalações de P&D em Hillsboro, Oregon. Prevê-se que a ferramenta TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV, fornecida pelo líder em litografia ASML, facilite escalabilidade e precisão incomparáveis ​​na fabricação de chips para a Intel. Essa tecnologia avançada permite que a Intel fabrique chips com capacidades e recursos de ponta, que são cruciais para o avanço da inovação em tecnologias emergentes, incluindo IA.

Fatores de crescimento do mercado de litografia EUV

A demanda global por microchips está aumentando devido à ampla adoção de tecnologias avançadas, como inteligência artificial, 5G e Internet das Coisas (IoT). À medida que as indústrias dependem cada vez mais de dispositivos eletrónicos mais potentes e eficientes, existe uma necessidade correspondente de microchips mais pequenos e mais sofisticados.

A miniaturização de semicondutores tornou-se um foco crítico, permitindo a produção de dispositivos compactos e altamente eficientes que oferecem desempenho aprimorado. A litografia EUV desempenha um papel indispensável neste processo de miniaturização, permitindo aos fabricantes criar padrões de circuitos ultrafinos com uma precisão sem precedentes.

Esta capacidade é essencial para a produção da próxima geração de microchips que atendam aos rigorosos requisitos das aplicações modernas. A crescente ênfase na miniaturização está aumentando a expansão do mercado de litografia EUV, uma vez que apoia o desenvolvimento de semicondutores de ponta que são fundamentais para a inovação tecnológica.

Além disso, os governos de todo o mundo estão a colocar uma ênfase crescente na indústria de semicondutores, reconhecendo a sua importância na segurança nacional e na competitividade económica. Para avançar no fabrico nacional de chips, estão a oferecer apoio substancial através de financiamento, incentivos fiscais e iniciativas estratégicas.

Este apoio governamental é particularmente forte em países como os EUA, a Europa e a China, onde os esforços se concentram no fortalecimento da cadeia de abastecimento de semicondutores e no avanço das capacidades de produção local. Há uma grande mudança em direção à adoção de tecnologias de ponta, como a litografia EUV, que é essencial para a produção de semicondutores da próxima geração.

• Por exemplo, em maio de 2024, o governo chinês introduziu o seu terceiro fundo de investimento planeado, apoiado pelo Estado, para expandir a sua indústria de semicondutores.,. Este fundo, com um capital de 47,5 mil milhões de dólares, foi detalhado num registo de empresas operado pelo governo.

Tendências do mercado de litografia EUV

O avanço contínuo da tecnologia de litografia EUV é uma tendência significativa que impulsiona o crescimento do mercado, particularmente através de suas capacidades aprimoradas na fabricação de semicondutores. As principais inovações na tecnologia de fonte EUV levaram ao aumento da potência e da produtividade da fonte, permitindo assim maiores rendimentos de wafer.

Estas melhorias são cruciais para satisfazer a crescente procura de chips avançados. O progresso na produção de máscaras mais duráveis ​​e sem defeitos está resultando na adoção generalizada dessa tecnologia. Além disso, o desenvolvimento de scanners de litografia EUV de próxima geração, que oferecem maior resolução e maior precisão de sobreposição, está avançando os limites da miniaturização e aumentando o desempenho na produção de chips.

Estes avanços tecnológicos estão a melhorar a eficiência e a relação custo-eficácia, ao mesmo tempo que estabelecem novos padrões de precisão e capacidade na fabricação de semicondutores, aumentando assim a expansão do mercado de litografia EUV.

Além disso, o avanço contínuo na indústria de eletrônicos de consumo é uma tendência importante que alimenta o crescimento do mercado. À medida que os consumidores exigem cada vez mais dispositivos com desempenho superior, vida útil prolongada da bateria e recursos inovadores, tem havido um aumento significativo na necessidade de chips semicondutores avançados.

A litografia EUV desempenha um papel fundamental nesta transformação, permitindo a produção de chips ultracompactos e de alto desempenho que são essenciais para a próxima geração de smartphones, laptops, consoles de jogos evestíveis. Esta tecnologia permite aos fabricantes redefinir as possibilidades em produtos eletrónicos de consumo, fornecendo produtos de última geração que satisfazem as expectativas crescentes dos consumidores conhecedores de tecnologia.

À medida que a concorrência para oferecer os dispositivos mais avançados se intensifica, o papel da litografia EUV na eletrónica de consumo torna-se cada vez mais crítico.

• De acordo com a organização Gitnux. Relatório, o mercado global de eletrônicos de consumo foi avaliado em US$ 729,11 bilhões em 2022 e deverá crescer a um CAGR de 6,9% de 2023 a 2030.

Análise de Segmentação

O mercado global é segmentado com base em equipamentos, usuário final e geografia.

Por Equipamento

Com base em equipamentos, o mercado é segmentado em fonte de luz, óptica, entre outros. O segmento de fontes de luz liderou o mercado de litografia EUV em 2023, atingindo uma avaliação de US$ 4,60 bilhões. Esse destaque é atribuído ao seu papel crítico na viabilização de todo o processo de litografia. A fonte de luz gera a luz ultravioleta extrema (EUV) necessária para gravar padrões precisos em pastilhas de silício.

À medida que os fabricantes de semicondutores continuam a avançar na miniaturização, a procura por fontes de luz mais potentes e eficientes aumentou significativamente. Este domínio é ainda reforçado pelos investimentos significativos em I&D e pelos elevados custos de produção associados ao desenvolvimento e manutenção destas fontes de luz avançadas.

Por usuário final

Com base no usuário final, o mercado é classificado em fabricantes e fundições de dispositivos integrados. O segmento de fundições garantiu a maior participação na receita de 58,72% em 2023 devido ao seu papel significativo na produção em massa de chips semicondutores. As fundições são as principais adotantes da tecnologia de litografia EUV.

A demanda por chips menores e mais eficientes usados ​​em aplicações avançadas como IA, 5G e computação de alto desempenho levou as fundições a investir pesadamente em litografia EUV. Esta tecnologia permite-lhes produzir os padrões intrincados e de alta densidade necessários para estes semicondutores da próxima geração.

Além disso, as fundições são consistentemente obrigadas a oferecer maior desempenho e promover a inovação em grande escala, tornando a litografia EUV indispensável para atender às crescentes demandas do mercado.

Análise regional do mercado de litografia EUV

Com base na região, o mercado global é classificado em América do Norte, Europa, Ásia-Pacífico, MEA e América Latina.

O mercado de litografia EUV da Ásia-Pacífico representou uma participação substancial de cerca de 36,28% em 2023, com uma avaliação de US$ 3,43 bilhões. A Ásia-Pacífico, especialmente países como Taiwan, Coreia do Sul e China, é o lar de alguns dos maiores e mais avançados fabricantes de semicondutores do mundo.

Essas empresas estão adotando cada vez mais a litografia EUV para manter sua vantagem competitiva e atender à crescente demanda global por chips de última geração. O domínio da região na produção de semicondutores alimenta a necessidade de equipamentos avançados de litografia, apoiando assim o crescimento do mercado regional.

• De acordo com o Banco Asiático de Desenvolvimento, as economias de alta renda e em desenvolvimento no Leste Asiático e no Sudeste Asiático representam coletivamente mais de 80% da fabricação global de semicondutores. O Japão abriga algumas das maiores empresas que fornecem equipamentos e materiais essenciais para a indústria de semicondutores, enquanto a República Popular da China lidera o mundo na produção de células fotovoltaicas, outra categoria importante de semicondutores.

A região Ásia-Pacífico é um importante centro de produção de produtos eletrónicos de consumo, sendo as empresas desta região responsáveis ​​pela produção de uma parte significativa dos smartphones, computadores portáteis e outros dispositivos eletrónicos do mundo. A crescente demanda por esses produtos, juntamente com a mudança para semicondutores mais avançados e eficientes, está levando à adoção generalizada da litografia EUV para produzir a próxima geração de chips.

• Um relatório co-lançado pela empresa de contabilidade global Ernst & Young e pela Câmara de Comércio da China para Importação e Exportação de Máquinas e Produtos Electrónicos em 2024 destaca a emergência da China como um centro global para produtos electrónicos de consumo e eletrodomésticos. Em 2023, a China dominou o mercado Ásia-Pacífico, capturando aproximadamente 48% da participação nas vendas. O relatório sublinha que a China solidificou a sua posição como nação líder tanto na produção como nas vendas e manteve uma presença significativa nas exportações, representando 42% das exportações globais em 2022.

A América do Norte está preparada para testemunhar um crescimento significativo com um CAGR robusto de 12,29% durante o período de previsão. O governo dos EUA tem-se concentrado cada vez mais em impulsionar a produção nacional de semicondutores para melhorar a segurança nacional e reduzir a dependência de fornecedores estrangeiros.

Iniciativas como a Lei CHIPS, que fornece financiamento e incentivos substanciais para a fabricação e pesquisa de semicondutores, estão impulsionando a adoção de tecnologias avançadas como a litografia EUV na América do Norte.

• De acordo com um relatório de agosto de 2024 do Fórum da Ásia Oriental, a indústria de semicondutores emergiu como um componente crucial da economia e da segurança nacional dos EUA. Isto é evidenciado pela rápida expansão das instalações de fabricação de semicondutores em todo o país. Investimentos significativos, como as novas instalações Fab 42 da Intel e a fábrica da TSMC no Arizona, estão a reforçar as capacidades de produção doméstica. Embora os Estados Unidos detenham apenas 12% da capacidade de produção global, são responsáveis ​​por mais de 46% das vendas totais de semicondutores em 2024, destacando a sua influência significativa no mercado global. A Associação da Indústria de Semicondutores informou que a Lei CHIPS estimulou mais de 450 mil milhões de dólares em investimentos privados no setor de semicondutores dos EUA, levando a 83 novos projetos de ecossistemas de semicondutores em 25 estados.

Além disso, a indústria de semicondutores da região beneficia de uma forte rede de colaborações entre empresas líderes de tecnologia, instituições de investigação e agências governamentais. Estas parcerias estão a promover a litografia EUV e a facilitar a sua adoção em diversas aplicações, impulsionando assim a expansão do mercado da América do Norte.

Cenário Competitivo

O relatório global do mercado de litografia EUV fornecerá informações valiosas com ênfase na natureza fragmentada da indústria. Atores proeminentes estão se concentrando em diversas estratégias de negócios importantes, como parcerias, fusões e aquisições, inovações de produtos e joint ventures para expandir seu portfólio de produtos e aumentar suas participações de mercado em diferentes regiões.

Iniciativas estratégicas, incluindo investimentos em atividades de I&D, o estabelecimento de novas instalações de produção e a otimização da cadeia de abastecimento, poderiam criar novas oportunidades para o crescimento do mercado.

Lista das principais empresas no mercado de litografia EUV

• ASML
• Corporação Nikon
• Ushio Inc.
• Fotrônica Inc.
• TRUMPF
• Empresa de fabricação de semicondutores de Taiwan limitada
• Toppan Fotomáscaras Inc.
• Carl Zeiss AG
• Corporação KLA
• SUSS MicroTec SE

Principais desenvolvimentos da indústria

• Junho de 2024 (Parceria): ASML, em parceria com o Imec, centro de inovação e pesquisa em tecnologias digitais, anunciou a inauguração do Laboratório de Litografia High NA EUV na Holanda. Esta instalação avançada, operada em conjunto pelas duas empresas, foi projetada para fornecer aos fabricantes de chips de memória de última geração acesso ao primeiro protótipo de scanner EUV de alto NA, juntamente com as ferramentas de metrologia e processamento associadas.
• Fevereiro de 2024 (Joint Venture): Toppan Photomask, fornecedora líder global de fotomáscaras semicondutoras, anunciou um acordo conjunto de pesquisa e desenvolvimento com a IBM. Esta colaboração se concentra no avanço do nó semicondutor lógico de 2 nanômetros (nm) por meio do uso de litografia ultravioleta extrema (EUV). Além disso, a parceria inclui esforços para desenvolver fotomáscaras EUV de alto NA para semicondutores de próxima geração.

O mercado global de litografia EUV é segmentado como:

Por Equipamento

• Fonte de luz
• Óptica
• Outros

Por usuário final

• Fabricantes de dispositivos integrados
• Fundições

Por região

• América do Norte
  • NÓS.
  • Canadá
  • México
• Europa
  • França
  • REINO UNIDO.
  • Espanha
  • Alemanha
  • Itália
  • Rússia
  • Resto da Europa
• Ásia-Pacífico
  • China
  • Japão
  • Índia
  • Coréia do Sul
  • Resto da Ásia-Pacífico
• Oriente Médio e África
  • CCG
  • Norte da África
  • África do Sul
  • Resto do Médio Oriente e África
• América latina
  • Brasil
  • Argentina
  • Resto da América Latina