EUV 光刻市场规模、份额、增长和行业分析，按设备（光源、光学器件等）、最终用户（集成设备制造商、铸造厂）和区域分析， 2024-2031

EUV光刻市场规模

2023年全球EUV光刻市场规模为94.5亿美元，预计将从2024年的104.7亿美元增长到2031年的233.7亿美元，预测期内复合年增长率为12.15%。人工智能 (AI)、物联网 (IoT) 和 5G 技术等技术的快速采用推动了对尖端半导体设备的需求。

EUV 光刻在这种情况下至关重要，因为它可以生产更小、更强大、更节能的芯片。这些先进芯片对于推动下一代技术至关重要，包括人工智能驱动的应用和高速 5G 网络。

在工作范围内，该报告包括 ASML、Nikon Corporation、Ushio Inc.、Photronics Inc.、TRUMPF、台积电、Toppan Photomasks Inc.、Carl Zeiss AG、KLA Corporation 等公司提供的产品和服务， SUSS MicroTec SE 等。

此外，在数据中心、云计算和人工智能应用的推动下，对高性能计算的需求不断增长，正在推动EUV光刻市场的增长。该技术能够生产满足这些应用严格的性能和能效要求所需的高密度芯片。随着企业和消费者寻求更快、更高效的计算解决方案，对 EUV 光刻的需求即将上升。

EUV（极紫外）光刻是一种先进的半导体制造工艺，使用波长为 13.5 纳米的极紫外光在硅晶圆上蚀刻复杂且高密度的电路图案。这项技术对于生产更小、更快、更节能的微芯片至关重要，而微芯片对于智能手机、高性能计算和 5G 网络等现代电子产品至关重要。

与传统光刻方法相比，EUV 光刻可实现更高的精度和小型化，从而促进下一代半导体的开发，推动各行业的技术进步。

分析师评论

领先技术公司、光刻提供商、研究机构和政府机构之间强大的合作网络对于推进 EUV 光刻技术至关重要。这些战略合作伙伴关系对市场增长做出了重大贡献。两家公司之间的合作对于推进 EUV 光刻技术的发展至关重要，EUV 光刻技术对于生产更小、更强大、更节能的半导体器件至关重要。

这些合作伙伴关系正在促进尖端光刻技术的开发，这对于下一代技术至关重要半导体制造业。这些合作正在增强 EUV 技术的能力，并加强其与各种应用的集成，从而支持市场的扩展。

此外，由于 EUV 光刻在生产先进半导体器件中发挥着关键作用，半导体代工厂正在迅速将 EUV 光刻纳入其运营中。 EUV 技术可以制造更小、更复杂的半导体特征，这对于满足电子产品对更高性能和更低功耗日益增长的需求至关重要。随着铸造厂采用 EUV 光刻，他们提高了制造尖端芯片的能力，并提高了精度和效率。

• 例如，2024 年 4 月，英特尔代工厂在其位于俄勒冈州希尔斯伯勒的研发工厂安装了业界第一台商用高数值孔径（高 NA）极紫外（EUV）光刻扫描仪。由光刻领导者 ASML 提供的 TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV 工具预计将有助于英特尔在芯片制造方面实现无与伦比的可扩展性和精度。这项先进技术使英特尔能够制造具有尖端功能和特性的芯片，这对于推进包括人工智能在内的新兴技术的创新至关重要。

EUV 光刻市场增长因素

由于人工智能、5G 和物联网 (IoT) 等先进技术的广泛采用，全球对微芯片的需求不断增加。随着各行业越来越依赖更强大、更高效的电子设备，相应地需要更小、更复杂的微芯片。

半导体小型化已成为关键焦点，使得能够生产可提供增强性能的紧凑且高效的器件。 EUV 光刻在这一小型化过程中发挥着不可或缺的作用，使制造商能够以前所未有的精度创建超精细电路图案。

这种能力对于生产满足现代应用严格要求的下一代微芯片至关重要。对微型化的日益重视正在促进 EUV 光刻市场的扩张，因为它支持作为技术创新基础的尖端半导体的开发。

此外，世界各国政府越来越重视半导体行业，认识到其对国家安全和经济竞争力的重要性。为了推动国内芯片制造，他们通过资金、税收优惠和战略举措提供大力支持。

这种政府支持在美国、欧洲和中国等国家尤为强劲，这些国家的努力重点是加强半导体供应链和提高本地生产能力。人们正在转向采用 EUV 光刻等尖端技术，这对于生产下一代半导体至关重要。

• 例如，2024 年 5 月，中国政府推出了国家支持的第三期计划投资基金，以扩大其半导体产业,。该基金的资本为 475 亿美元，详细信息已在向政府运营的公司注册处提交的文件中详细列出。

EUV光刻市场趋势

EUV 光刻技术的持续进步是推动市场增长的重要趋势，特别是通过其增强的半导体制造能力。 EUV 光源技术的关键创新提高了光源功率和生产率，从而实现了更高的晶圆产量。

这些改进对于满足对先进芯片不断增长的需求至关重要。在生产无缺陷且更耐用的掩模方面取得的进展导致了该技术的广泛采用。此外，下一代 EUV 光刻扫描仪的开发提供了更高的分辨率和更高的覆盖精度，正在突破小型化的极限并提高芯片生产的性能。

这些技术进步提高了效率和成本效益，同时也为半导体制造的精度和能力设定了新标准，从而扩大了 EUV 光刻市场。

此外，消费电子行业的不断进步是推动市场增长的主要趋势。随着消费者对具有卓越性能、更长电池寿命和创新功能的设备的需求日益增长，对先进半导体芯片的需求显着增加。

EUV 光刻在这一转变中发挥着关键作用，能够生产对下一代智能手机、笔记本电脑、游戏机和游戏机至关重要的超紧凑、高性能芯片。可穿戴设备。这项技术使制造商能够重新定义消费电子产品的可能性，提供最先进的产品，满足精通技术的消费者日益增长的期望。

随着提供最先进设备的竞争加剧，EUV 光刻在消费电子产品中的作用变得越来越重要。

• 据 Gitnux 组织称。报告显示，2022年全球消费电子市场价值为7291.1亿美元，预计2023年至2030年复合年增长率为6.9%。

细分分析

全球市场根据设备、最终用户和地理位置进行细分。

按设备分类

根据设备，市场分为光源、光学等。 2023 年，光源领域引领 EUV 光刻市场，估值达到 46 亿美元。这种突出地位归因于它在实现整个光刻工艺中的关键作用。该光源产生在硅晶圆上蚀刻精确图案所需的极紫外 (EUV) 光。

随着半导体制造商不断推进小型化，对更强大、更高效的光源的需求显着增加。与开发和维护这些先进光源相关的大量研发投资和高昂的生产成本进一步强化了这种主导地位。

按最终用户

根据最终用户，市场分为集成设备制造商和代工厂。由于在半导体芯片的大规模生产中发挥着重要作用，代工部门在 2023 年占据了最大的收入份额，达到 58.72%。铸造厂是 EUV 光刻技术的主要采用者。

AI、5G 和高性能计算等先进应用对更小、更高效芯片的需求促使代工厂大力投资 EUV 光刻技术。这项技术使他们能够生产这些下一代半导体所需的复杂和高密度图案。

此外，铸造厂始终需要提供更高的性能并大规模促进创新，这使得 EUV 光刻对于满足不断增长的市场需求不可或缺。

EUV光刻机市场区域分析

按地区划分，全球市场分为北美、欧洲、亚太地区、MEA 和拉丁美洲。

2023年亚太EUV光刻机市场占比高达36.28%左右，估值达34.3亿美元。亚太地区，特别是台湾、韩国和中国等国家/地区，是世界上一些最大、最先进的半导体制造商的所在地。

这些公司越来越多地采用 EUV 光刻来保持竞争优势并满足全球对尖端芯片不断增长的需求。该地区在半导体生产方面的主导地位推动了对先进光刻设备的需求，从而支持了该地区市场的增长。

• 根据亚洲开发银行的数据，东亚和东南亚的高收入和发展中经济体合计占全球半导体制造业的80%以上。日本拥有一些为半导体行业提供必需设备和材料的最大公司，而中华人民共和国在光伏电池（另一个重要的半导体类别）的生产方面处于世界领先地位。

亚太地区是消费电子产品制造的主要中心，该地区的公司生产全球智能手机、笔记本电脑和其他电子设备的很大一部分。对这些产品不断增长的需求，加上向更先进、更高效的半导体的转变，导致广泛采用 EUV 光刻来生产下一代芯片。

• 全球会计师事务所安永会计师事务所和中国机电产品进出口商会联合发布的2024年报告强调，中国将成为全球消费电子和家用电器中心。 2023 年，中国主导亚太市场，占据约 48% 的销售份额。报告强调，中国巩固了生产和销售领先国家的地位，并在出口方面保持了重要地位，2022年将占全球出口份额的42%。

北美地区有望在预测期内实现 12.29% 的复合年增长率的显着增长。美国政府越来越注重促进国内半导体制造，以增强国家安全并减少对外国供应商的依赖。

《CHIPS 法案》等举措为半导体制造和研究提供了大量资金和激励措施，正在推动 EUV 光刻等先进技术在北美的采用。

• 根据东亚论坛 2024 年 8 月的一份报告，半导体行业已成为美国经济和国家安全的重要组成部分。全国半导体制造设施的快速扩张就证明了这一点。英特尔新的 Fab 42 工厂和台积电位于亚利桑那州的工厂等重大投资正在增强国内生产能力。尽管美国的制造能力仅占全球的12%，但到2024年其半导体销售额将占全球半导体总销售额的46%以上，凸显其在全球市场的重要影响力。半导体行业协会报告称，CHIPS 法案已刺激美国半导体行业超过 4500 亿美元的私人投资，在 25 个州催生了 83 个新的半导体生态系统项目。

此外，该地区的半导体行业受益于领先技术公司、研究机构和政府机构之间强大的合作网络。这些合作伙伴关系正在推动 EUV 光刻技术的发展，并促进其在各种应用中的采用，从而促进北美市场的扩张。

竞争格局

全球 EUV 光刻市场报告将提供宝贵的见解，重点关注该行业的分散性。知名企业正专注于合作伙伴关系、并购、产品创新和合资等几个关键业务战略，以扩大其产品组合并增加不同地区的市场份额。

包括研发活动投资、建立新制造设施和供应链优化在内的战略举措可以为市场增长创造新的机会。

EUV光刻机市场重点企业名单

• 阿斯麦公司
• 尼康公司
• 牛尾公司
• 光电公司
• 通快
• 台积电股份有限公司
• 凸版光掩模公司
• 卡尔蔡司公司
• 科兰公司
• SUSS MicroTec SE

主要行业发展

• 2024 年 6 月（合作）：ASML 与数字技术创新和研究中心 Imec 合作，宣布在荷兰开设高 NA EUV 光刻实验室。该先进设施由两家公司联合运营，旨在为尖端存储芯片制造商提供第一台高数值孔径 EUV 扫描仪原型以及相关的计量和处理工具。
• 2024年2月（合资）：全球领先的半导体光掩模供应商凸版光掩模 (Toppan Photomask) 宣布与 IBM 签署联合研发协议。此次合作的重点是通过使用极紫外 (EUV) 光刻来推进 2 纳米 (nm) 逻辑半导体节点。此外，该合作伙伴关系还包括为下一代半导体开发高数值孔径 EUV 光掩模。

全球 EUV 光刻市场细分为：

按设备分类

• 光源
• 光学
• 其他的

按最终用户

• 集成设备制造商
• 铸造厂

按地区

• 北美
  • 我们。
  • 加拿大
  • 墨西哥
• 欧洲
  • 法国
  • 英国。
  • 西班牙
  • 德国
  • 意大利
  • 俄罗斯
  • 欧洲其他地区
• 亚太
  • 中国
  • 日本
  • 印度
  • 韩国
  • 亚太其他地区
• 中东和非洲
  • 海湾合作委员会
  • 北非
  • 南非
  • 中东和非洲其他地区
• 拉美
  • 巴西
  • 阿根廷
  • 拉丁美洲其他地区